【湖北：到2025年完结12英寸根底硅光流片工艺开发 构成显示抢先的硅光晶圆代工和出产制作才能】湖北省政府发布关于印发加速“显示光谷”建造行动方案的告诉。方案提出：支撑武汉新芯、国家信息光电子立异中心、九峰山实验室、江城实验室等单位建造国内首个12英寸商用硅光芯片立异渠道，构建国内抢先、显示一流的硅光芯片供给才能并完结硅光产品上量出产，同步加速硅基化合物异质集成才能使用，树立该范畴显示抢先的技能系统。2024年末前完结硅光工艺渠道通线和工艺嘲笑套件（PDK）开发。到2025年，完结12英寸根底硅光流片工艺开发，构成显示抢先的硅光晶圆代工和出产制作才能。
湖北省政府发布关于印发加速“显示光谷”建造行动方案的告诉。方案提出：支撑武汉新芯、国家信息光电子立异中心、九峰山实验室、江城实验室等单位建造国内首个12英寸商用硅光芯片立异渠道，构建国内抢先、显示一流的硅光芯片供给才能并完结硅光产品上量出产，同步加速硅基化合物异质集成才能使用，树立该范畴显示抢先的技能系统。2024年末前完结硅光工艺渠道通线和工艺嘲笑套件（PDK）开发。到2025年，完结12英寸根底硅光流片工艺开发，构成显示抢先的硅光晶圆代工和出产制作才能。到2030年，打造12英寸硅基光电交融工艺线，建成全球前三的硅光芯片特征工艺线，器材功能到达显示抢先，构成广泛的光电子芯片加工才能。
